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Halbleiterindustrie
Halbleiteranwendungen
Beschichtung
AE bietet ein umfassendes Portfolio für die Halbleiterabscheidung an, darunter Lösungen für Plasma-Stromversorgungen, Temperaturmessung, Temperaturkontrolle und Waferkontrolle.
Ätzen
Die genauen Plasma-Stromversorgungen von Advanced Energy ermöglichen eine exakte Steuerung von Ätzanwendungen bei hoher Prozesswiederholbarkeit und Prozessausbeute.
Elektronenstrahl-Inspektion
Advanced Energy liefert stabile, zuverlässige Energie für Elektronenstrahlprüfsysteme. Diese exakte Steuerung ermöglicht eine hochpräzise Fehlererkennung und stellt sicher, dass Speicher- und Logikbausteine die strengen Spezifikationen erfüllen.
Implantation
Bei der Entwicklung von AE Power-Produkten liegt der Schwerpunkt auf der Optimierung des Wirkungsgrads und der Leistungsdichte, um eine präzise Steuerung der Ionenenergie zu gewährleisten.
Kalibrierung von RF-Generatoren
Durch die Verwendung von Leistungsmessern von Advanced Energy zur Feldkalibrierung von RF-Generatoren bleiben die Genauigkeit und Zuverlässigkeit Ihrer Halbleiterverarbeitungsgeräte gewährleistet.
Plasma Stripping
Die präzise Steuerung der Leistung beim Plasma Stripping ist von entscheidender Bedeutung, um ein einwandfreies Strippen der Waferoberfläche zu gewährleisten, so dass diese frei von potenziellen Defekten ist.
Ausgewählte Ressourcen
Etching and Wafer Fab Equipment Application Note
RPS Chamber Anodization White Paper
3 Tips for Sourcing Chamber Cleaning RPS Systems
Electrostatic Semiconductor Wafer Clamping/Chucking System (ESC) Application Note
