Remote Plasma Sources

Xstream

性能卓越的腔体清洁型高质量远程等离子体源

Xstream 远程等离子体源 (RPS) 具有很长的设计使用寿命,性能超越竞争产品,是腔体清洁的理想之选。它采用专利点火方式和算法,以及专有铝合金硬质阳极氧化处理腔体。

  • 经过验证的性能:性能经过现场验证,可靠性无与伦比
  • 独特的点火方式:通过可靠的等离子体点火缩短机台停机时间
  • 无需昂贵的涂层:定制的合金和先进的阳极氧化可确保更长的腔体寿命
  • 快速腔体清洁:供气解离速率高,确保高效运行
  • 概述
  • 技术参数
  • 文件
  • 服务和支持

概述

高效的 Xstream<sup>®</sup> RPS 可对大量 NF 进行分解,3 对腔体进行快速清洁,提高机台的整体性能。其等离子体腔体采用高纯度铝合金制造,具有专利冷却能力。Xstream RPS 不采用昂贵的腔体涂层,具有长达多年的免维护设计使用寿命,是用于实现可靠性和高效性能的明智之选。

优点

  • 采用定制铝合金和 Type III 硬式阳极处理,无需昂贵的腔体涂层
  • 通过可最大限度降低热应力的冷却系统提高腔体性能和耐久性
  • 通过主动匹配网络提高效率并改进等离子体功率输出
  • 通过实时等离子体测量,对电源和过程进行精确控制
  • 通过专利点火系统实现可靠、可重复的等离子体点火

特点

  • 高度可靠的 RPS 可最大限度延长机台的正常运行时间
  • 将反应性气体有效输送到处理腔体,以提高性能
  • 配备集成主动匹配网络 (AMN) 的变压器耦合等离子体 (TCP) 源
  • 工作频率为 225 kHz 至 660 kHz
  • 8 kW/10 kW 功率型号
  • 尺寸

    高 x 宽 x 深:26.7 厘米 x 25.25 厘米 x 47.8 厘米
    高 x 宽 x 深:10.5 英寸 x 9.94 英寸 x 18.82 英寸

  • 重量

    28.7 千克(63.2 磅)

  • 交流工频

    公称 50 至 60 Hz;范围 47 至 63 Hz

  • 交流输入电流

    • 对于 10 kW 版本:公称 31 安培/每相最大 35 安培
    • 对于 8 kW 版本:公称 28 安培/每相最大 31 安培
  • 功率精度

    +/- 5% 或 +/- 200 W(取较大值)
    (实测等效等离子体阻抗为 1.2 欧姆)

  • 电气效率

    满额功率和公称线路下 > 80%

  • 功率因数

    > 0.90

全球服务和支持

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产品比较

模型

Xstream Remote Plasma Source

Xstream 8 kW

Xstream Remote Plasma Source

Xstream 10 kW

点火

0.1 至 4.0 Torr,< 1 slm Ar

0.1 至 4.0 Torr,< 1 slm Ar

操作

0.5 至 12.0 Torr,最大 6slm NF3

0.5 至 15.0 Torr,最大 8 slm NF3

解离

≥ 98%

≥ 98%

腔体

专有铝合金

专有铝合金

O 形圈

Chemraz&lt;sup&gt;®&lt;/sup&gt;

Chemraz&lt;sup&gt;®&lt;/sup&gt;

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