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注入

随着芯片设计日趋复杂，对精确控制离子注入的要求也越来越高。AE 功率产品的设计专注于优化效率和功率密度，确保精确控制离子能量。

利用精密电源实现精确无误的离子注入

芯片设计日趋复杂，而离子注入是帮助调节不同电路电气特性的关键步骤。Advanced Energy 的电源产品可优化效率和功率密度，实现精确的离子能量控制。我们的交流/直流和直流/直流前端解决方案产品组合的输出功率范围宽广，并提供 12 V 和 48 V 输出电压选择。我们还提供各种行业标准的板载电源模块，得到原始设备制造商和系统集成商的广泛使用。

特色产品

特色

Paramount RF Generator

Industry-Leading, Repeatable Power Delivery for Core Plasma Applications

特色

Paramount Plus RF Generator

Multi-Level Pulsing and Pulse Waveform Control for Emerging Plasma Applications

特色

Navigator II Match Network

Rapid, Accurate, and Reliable Digitally-Tuned Matching

特色

Greater than 1 kW

Advanced Energy is a leader in high-power solutions, providing a range of products for applications that require greater than 1 kW power.

Paramount RF Generator 数据表	RF Plasma Generators	Industry-Leading, Repeatable Power Delivery for Core Plasma Applications
Paramount Plus RF Generator 数据表	RF Plasma Generators	Multi-Level Pulsing and Pulse Waveform Control for Emerging Plasma Applications
Navigator II Match Network 数据表	RF Match Networks	Rapid, Accurate, and Reliable Digitally-Tuned Matching
Greater than 1 kW		Advanced Energy is a leader in high-power solutions, providing a range of products for applications that require greater than 1 kW power.
600 W and Above		Advanced Energy powers industries with high voltage amplifiers designed to go up to 50 kV, reaching 600 W.
Bipolar		Improve Throughput and Virtually Eliminate Sticky Wafer and Wafer Popping Issues

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特色资源

HVPS Overview Brochure

OLH10K Series Data Sheet

HiTek Power OLS10KD Series Data Sheet

相关应用

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沉积

AE 为半导体沉积提供全面的产品组合，包括等离子电源输送、温度测量、温度控制和晶圆控制解决方案。

蚀刻

Advanced Energy 的高精度等离子体功率传输系统可对蚀刻应用进行精确控制，从而实现高重复性和高产量。

剥离

在等离子蚀刻过程中，精确控制功率对于确保完美剥离晶圆表面、杜绝任何潜在缺陷至关重要。

电子束检测

Advanced Energy 为电子束检测系统提供稳定可靠的电源。通过严密控制实现高精度的缺陷识别，确保存储器和逻辑器件符合严苛的规格要求。

探索电子束检测