蚀刻
蚀刻
满足当前的半导体制造需求，并针对未来的需求做好准备。
体验无与伦比的等离子体工艺控制。Advanced Energy 在针对关键蚀刻应用和器件几何图形的先进电源和控制解决方案领域处于市场领先地位。我们提供多种射频频率、功率输出水平和匹配技术，以及用于静电监测的光纤技术。
借助我们可定制的精密电源解决方案，可以优化电源精度、速度和工艺重复性，从容应对晶圆加工面临的各项挑战。我们的解决方案可以帮助您满足当前的半导体制造需求并预测未来的需求。
详细了解我们的工艺，semiconductor manufacturing 找到适合您需求的解决方案。
挑战
加工高宽比较大的特征、复杂的三维结构和脆弱易损的新型材料，让蚀刻工艺面临的挑战更为复杂。
器件堆栈中的新型材料催生了对于同一工艺腔体内先进多膜蚀刻能力的需求。为了解决光刻技术限制（1X nm 以下节点），自对准双重和四重刻印技术需要蚀刻工艺将图案复制到每块晶圆上。
蚀刻工艺需要在整个晶圆之上做到极致的控制和精度。
我们的解决方案
Advanced Energy 提供多种输出功率和频率，并可实现微秒级的控制。我们先进的自动频率调谐、多级脉冲（波形整形）和固态匹配技术可为您提供精密的控制工具。我们集成了 Fast DAQ™ 以及数据采集和无障碍套件，可提供工艺洞察，加快开发速度。
Advanced Energy 的射频电源和高速匹配网络可以帮助您优化先进导体蚀刻、介电蚀刻、ALE 和 TSV 蚀刻工艺所需的电源精度、准确度、速度和工艺可重复性。
我们还为蚀刻器系统和晶圆厂设备中的静电吸盘提供光纤温度监测。我们的混合匹配探头和电子模块或转换器解决方案可以帮助您将光纤温度解决方案轻松集成到要求严苛的半导体应用中。
优势
- 通过增强等离子体稳定性和工艺可重复性提高良品率
- 通过全数字控制精确射频传输优化电源使用
- 快速响应等离子体变化，改善等离子体管控
- 自适应频率调谐多级脉冲，改善蚀刻速率选择性
- 提供全球支持，确保最大程度延长正常运行时间并提高产品性能
