Remote Plasma Sources

Rapid OX

适用于氧气类过程的远程等离子体源

Advanced Energy 的 Rapid OX 采用独特的可由用户插入安装和拆卸的石英腔体内衬,是氧气类工艺的理想选择。

  • 特别适合于光刻胶灰化/碳质真空腔清理:石英衬层减少了氧复合,确保反应物质到工艺腔的有效输送
  • Rapid OX 功率为 6 kW,通过变频和功率控制解离氧气,实现最佳性能
  • 可靠的设计:与采用全石英腔体的产品相比,该腔体和可拆卸插入设计具有更好的可靠性
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概述

由于 Rapid OX 采用可拆卸石英内衬,可减少复合效应,延长氧自由基的寿命。与阳极氧化真空腔相比,所产生的活性反应物质寿命更长,从而提高光刻胶拨出速率。此外,由于操作员可以轻松地安装或拆卸石英内衬,停机时间得以缩短,更换成本也显著降低。

优点

  • 采用可拆卸、可更换的石英腔体,停机时间和拥有成本均大幅缩减
  • 高解离速率且产生高密度自由基,提高了过程性能
  • 通过变频调谐和精密功率控制,确保了工艺的可重复性和可控性
  • 高度可靠的腔室设计和冷却系统增加了腔室寿命,且降低了使用成本
  • 提高工具利用率,减少预防性维护,降低拥有成本

特点

  • 石英内衬理想适用于光刻胶灰化或碳质真空腔清理工艺
  • 变频匹配提高可使用的等离子阻抗范围,通过改变气体化学特征、压力和功率设置点实现控制
  • 热管理改进有助于确保真空腔体实现更长寿命
  • 利用低动态压力超调,Rapid OX 可以快速点火并达到稳态运行
  • 等离子体功率范围

    500 至 6000 W
    在电源阻抗范围内可调整功率

  • 过程应用

    远程供气用于下游腔室清洁、反应性刻蚀工艺和反应性沉积工艺

  • 点火

    100 mTorr 至 1 Torr 和高达 4 SLM 的氧气和氮气2 (90% 氧气和 10% 氮气2

  • 化学相容性

    本机组适用于选定气体,例如 Ar、O2、H2、N2、F2、H2O、NF3或 O2

  • 工作流量、稀释和压力范围

    • 经过验证的机组工作流量范围为 0.2 至 4 slm,适合纯 O2,以及2含有 10% N2且在 100 mTorr 至 4 Torr 之间的 O
    • 也可以使用其他气压/流量组合,但在使用前必须获得 Advanced Energy 的批准
  • 尺寸

    高 x 宽 x 深:35.3 厘米 x 41.5 厘米 x 39.2 厘米
    高 x 宽 x 深:14 英寸 x 16.5 英寸 x 15.5 英寸

  • 重量

    37.6 千克(83 磅)

  • 射频频率

    250 至 665 kHz

  • 功率精度

    参考等离子体负载 +/- 5% 或 200 W,以较大者为准

  • 工作负载限值

    工作负载需在以下工作限值内:

    最小功率

    500 W

    最大功率

    6000 W

    最大等离子体电压

    325 Vrms

    最小等离子体电流

    5 Arms

    最大一次电流

    120 Arms

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