等离子体发生器

Pinnacle Plus+

久经工艺验证的脉冲直流电源,适用于单磁控管反应溅射电介质薄膜

Pinnacle Plus+ 发生器以脉冲配置提供直流电源,可通过反应溅射制备极其均匀的高质量电介质薄膜。

  • 在反向脉冲期间清除电荷,防止产生电弧
  • 通过频率和占空比控制调节工艺
  • 紧凑型风冷设计,可在主/从配置中扩展
  • 概述
  • 技术参数
  • 文件
  • 服务和支持

概述

Advanced Energy Pinnacle® Plus+ 电源采用易于集成的封装,为反应工艺提供脉冲直流解决方案的各种优势,可提高过程效率、降低成本,同时具有出色的灵活性和自由度。与复杂昂贵的交流电源解决方案相比,Pinnacle Plus+ 电源结合了标准直流技术和我们获得专利的脉冲直流技术,可提供更高的沉积率、更高的可重复性能和出色的薄膜质量。

优点

  • 更高的沉积速率和良品率 
  • 出色的薄膜均匀性和质量 
  • 减轻电弧导致的衬底损害 
  • 优异的工艺灵活性和自由度 
  • 高重复性的表现 

特点

  • 频率可在 5 至 350 kHz 范围内调节 
  • 可变占空比最高可达 45% 
  • 宽电压范围 - 单输出宽阻抗范围 
  • 出色的电弧控制  
  • 可选双输出,用于多真空腔生产 
  • 功率

    单输出

    1.5 kW HALO(高精度低输出),5 kW(单输出和双输出型号),10 kW

    双输出

    5/5 kW,独立控制

  • 电压

    单电压范围十分宽广,最高可达 800 VDC(无抽头)

  • 频率

    可在 0 Hz(直流)至 350 kHz 之间调节

  • 可重复性

    +/- 0.1% 额定功率

  • 准确性

    +/- 1% 设定值或 +/- 0.2% 全额定功率(取较大值)

  • 通信接口

    模拟、RS-232/485、Profibus

  • 交流输入

    提供 208、400 和 480 VAC 型号

规格如有更改,恕不另行通知。并非所有型号和配置都具有所有选配选项和附件。所列尺寸一般仅参考标准配置和模块主体。请向销售代表确认技术规格和定制要求。Advanced Energy 对错误或遗漏概不负责。

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