等离子体发生器
Pinnacle Plus+
久经工艺验证的脉冲直流电源，适用于单磁控管反应溅射电介质薄膜
Pinnacle Plus+ 发生器以脉冲配置提供直流电源，可通过反应溅射制备极其均匀的高质量电介质薄膜。
- 在反向脉冲期间清除电荷，防止产生电弧
- 通过频率和占空比控制调节工艺
- 紧凑型风冷设计，可在主/从配置中扩展
- 概述
- 技术参数
- 文件
- 服务和支持
概述
Advanced Energy Pinnacle® Plus+ 电源采用易于集成的封装，为反应工艺提供脉冲直流解决方案的各种优势，可提高过程效率、降低成本，同时具有出色的灵活性和自由度。与复杂昂贵的交流电源解决方案相比，Pinnacle Plus+ 电源结合了标准直流技术和我们获得专利的脉冲直流技术，可提供更高的沉积率、更高的可重复性能和出色的薄膜质量。
优点
- 更高的沉积速率和良品率
- 出色的薄膜均匀性和质量
- 减轻电弧导致的衬底损害
- 优异的工艺灵活性和自由度
- 高重复性的表现
特点
- 频率可在 5 至 350 kHz 范围内调节
- 可变占空比最高可达 45%
- 宽电压范围 - 单输出宽阻抗范围
- 出色的电弧控制
- 可选双输出，用于多真空腔生产
-
功率
单输出
1.5 kW HALO（高精度低输出），5 kW（单输出和双输出型号），10 kW
双输出
5/5 kW，独立控制
-
电压
单电压范围十分宽广，最高可达 800 VDC（无抽头）
-
频率
可在 0 Hz（直流）至 350 kHz 之间调节
-
可重复性
+/- 0.1% 额定功率
-
准确性
+/- 1% 设定值或 +/- 0.2% 全额定功率（取较大值）
-
通信接口
模拟、RS-232/485、Profibus
-
交流输入
提供 208、400 和 480 VAC 型号
规格如有更改，恕不另行通知。并非所有型号和配置都具有所有选项和附件。所列尺寸一般仅参考标准配置和模块主体。请向销售代表确认技术规格和定制要求。Advanced Energy 对错误或遗漏概不负责。
全球服务和支持
在产品生命周期的每个阶段提供世界一流的技术服务支持，从启动到长期运行，最大限度提高晶圆厂生产力和设备投资回报率。我们提供的服务是基于三十多年的精密电源和应用专业知识。
应用支持和咨询
在 Advanced Energy 专业技术顾问和工程人员的帮助下，可以加快设备安装调试和工艺流程，或是帮助客户解决具体应用问题。从现场审查、分析和咨询中受益。
保修
减少额外维护成本，进一步保护成本效益。Advanced Energy 提供整体的延长保修服务。